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質(zhì)譜成像基質(zhì)微噴霧分析系統(tǒng)
產(chǎn)品型號:μMatrix Spotter
產(chǎn)品代碼:
產(chǎn)品價格:
折 扣 率: 0
最后更新:2015-08-24
關(guān) 注 度:4043
生產(chǎn)企業(yè):華儀行北京科技有限公司
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產(chǎn)品詳細介紹質(zhì)譜成像基質(zhì)微噴霧系統(tǒng)
公司簡介:
MALDI質(zhì)譜成像技術(shù)已成為生物標志物研究、醫(yī)學(xué)、藥物研究等方面的重要手段,自動化的基質(zhì)噴涂技術(shù)可大大提高MALDI質(zhì)譜成像的靈敏度和分辨率。HST公司研發(fā)的μMatrix(矩陣觀察)微噴霧系統(tǒng)是質(zhì)譜組織成像領(lǐng)域內(nèi)一款新型的基質(zhì)制備設(shè)備。通過電腦控制的壓電式模塊,只需要pl的上樣量,即可產(chǎn)生高重現(xiàn)性和均一性的Matrix制備。在組織多肽領(lǐng)域,該系統(tǒng)也可以制備均質(zhì)的酶消化樣本。與市場上傳統(tǒng)的納升級噴霧系統(tǒng)不同,此微噴霧系統(tǒng)采用全新的精細霧點控制模塊,率先在細微的組織表面高分辨率的精確均勻噴灑各種基質(zhì)。也可將胰蛋白酶直接噴灑在組織表面,進行表面蛋白質(zhì)原位酶解,不但能看到目標蛋白質(zhì)的分布,而且能通過質(zhì)譜儀直接鑒定蛋白質(zhì)。
聯(lián)系人:張經(jīng)理
聯(lián)系電話:18811701535
QQ:2766223075
技術(shù)指標:
應(yīng)用精度:±50μm
噴霧分辨率:5760*1440 dpi
樣品槽:支持6個樣品瓶位
噴霧速度:大約30秒 (在 5×5 cm2區(qū)域上)
自動應(yīng)用控制器:定量重復(fù)噴霧
板支架:384孔格式板,專用銦錫導(dǎo)電載玻片(ITO slide glass)
加熱板:溫度范圍20~50℃
壓電式噴霧單元:3 PL /最少

■性能:

   精確性和均一性

    μMatrix Spotter可以將世界地圖上的任何區(qū)域繪制成微斑點的矩陣陣列。

操作簡單
 
    其軟件直觀的用戶界面可以精確控制基質(zhì)的數(shù)量、斑點面積以及位置。



可重現(xiàn)性

    通過使用pL-級壓電式噴霧單元模塊,為矩陣觀察提供各種基質(zhì)溶液的高還原性斑點,如HCCA (L) 和 DHB (R)。

■應(yīng)用:MS成像
  小鼠腦組織脂質(zhì)成像
   SA基質(zhì)晶體           小鼠腦脂質(zhì)
使用μ矩陣觀察           m/z 788            m/z 826             m/z 850
  使用空氣噴射式方法



乳腺癌組織的胰蛋白酶消解
使用μMatrix Spotter對進行胰蛋白酶消解后的乳腺癌組織MALDI-TOF MS。質(zhì)譜成像顯示肽m/z 1213和1396的分布;肽m/z 1213通過MS/MS分析被識別為人類Ig α-2 鏈。

發(fā)芽馬鈴薯毒素成像

使用μMatrix Spotter顯示50通道DHB馬鈴薯芽切片成像。

■μMatrix Spotter
μMatrix Spotter產(chǎn)品優(yōu)勢

胰蛋白酶溶液和優(yōu)化的溶劑混合液噴涂在組織切片上,可用于MALDI質(zhì)譜成像實驗。
μMatrix Spotter的操作軟件可以精確選擇基質(zhì)打印區(qū)域,從而盡量減少基質(zhì)溶液的使用。
通過壓電式噴霧單元在組織切片上方的垂直“PL”噴霧可實現(xiàn)打印區(qū)域基質(zhì)的一致性。
MALDI MS成像的組織提取物可實現(xiàn)少量重復(fù)打印控制。重復(fù)數(shù)量和干燥時間可根據(jù)個個實驗的目的進行優(yōu)化控制。
可同時打印4個氧化銦錫載玻片。


配件
       斑點探測頭           標尺模板
電源線        靶托      清潔元件      樣品瓶     USB線

    產(chǎn)品應(yīng)用于蛋白質(zhì)組學(xué)研究,MALDI-TOF MS和表面科學(xué)等領(lǐng)域。制造成本低,為MALDI-TOF MS提供更簡化、更先進的實驗用具。

專業(yè)的質(zhì)譜載樣臺
·疏水性和親水性結(jié)構(gòu)設(shè)計
·基質(zhì)噴霧細而均勻
·基質(zhì)用量少
aaaa·一次性使用

μ陣列質(zhì)譜載樣臺
·均勻密點陣列→HTS專有
·μ焦點技術(shù)→高靈敏性
·一次性使用
·高成像性

氧化銦錫涂層質(zhì)譜載玻片

·經(jīng)濟性,高成像性
·穩(wěn)定的氧化銦錫涂層
·25 x 75 mm, I型或II型
·厚度0.7 mm 和 1.1 mm



















華儀行北京科技有限公司
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